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NLD-3500（A）全自動原子層沉積系統概述：原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術，具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續以及無孔的特性，可以提供的薄膜性能。

1.ALD (傳統的熱原子層沉積)；2.PEALD (等離子增強原子層沉積)；3.Powder ALD (粉末樣品的原子層沉積)；儀器簡介：原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD），也稱為原子層外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），或原子層化學氣相沉積（Atomic Layer Chemical Vapor Deposition。

基質輔助脈沖激光蒸發(MAPLE)是PLD的一種變體。這是由NRL集團新引入的技術，以促進某些功能有機材料的薄膜沉積。基于UV (5-6 eV)的傳統PLD技術中，光化學反應可能會惡化有機分子、聚合物等的功能。而在MAPLE中，通過將待沉積的有機物(或聚合物)與吸收激光波長的溶劑(基質)混合來制備特殊的靶。除了光學吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質的先決條件。

激光分子束外延(Laser MBE)是上個世紀90年代發展起來的一種新型高精密制膜技術，它集PLD的制膜特點和傳統MBE的超高真空精確控制原子尺度外延生長的原位實時監控為一體，除保持了PLD方法制備的膜系寬，還可以生長通常的半導體超晶格材料，特別適合生長多元素、高熔點、復雜層狀結構的薄膜，如超導體、光學晶體、鐵電體、壓電體、鐵磁體以及有機高分子等。

NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，到6旋轉平臺，可支持到3個偏軸平面磁控管。